안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
155 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 12
154 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 30
153 ICP에서 전자의 가속 [1] 104
152 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 129
151 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 93
150 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 70
149 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 304
148 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 333
147 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 459
146 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 235
145 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 638
144 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 577
143 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 649
142 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 405
141 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 601
140 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1113
139 ICP lower power 와 RF bias [1] 1403
138 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 566
137 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 599
136 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1025

Boards


XE Login