질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
댓글 3
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76677 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20151 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57151 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68672 |
| » | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92182 |
| 98 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1311 |
| 97 | DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] | 1330 |
| 96 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1347 |
| 95 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1393 |
| 94 |
dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!!
[1]  | 1402 |
| 93 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1428 |
| 92 | N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] | 1438 |
| 91 | PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] | 1443 |
| 90 | 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] | 1475 |
| 89 | plasma 형성 관계 [1] | 1500 |
| 88 | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 1594 |
| 87 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 1604 |
| 86 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1658 |
| 85 | 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] | 1666 |
| 84 | ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] | 1730 |
| 83 | N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] | 1805 |
| 82 | 가입인사드립니다. [1] | 1880 |
| 81 | 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] | 1896 |
| 80 | RF generator 관련 문의드립니다 [3] | 1910 |
| 79 | Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] | 1935 |