CCP CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.

2010.01.28 19:44

kailo 조회 수:22873 추천:157

안녕하세요? 궁금한게 있어서 여쭤봅니다.
Source는 CCP방식입니다. 13.56MHz로 구동되고 matcher 단에서 low pass filter를 통해 나오는 Vdc 값을 모니터링합니다.
그런데 Source 전극에 anodizing처리를 했는데 품질이 좋지 못한 anodizing의 경우에는 Vdc 값이 "-"로 뜨는데 고품질 anodizing의 경우에는 "+"값을 띕니다.
고품질의 경우에는 CCP 소스면에서 완전히 floating되어서 그러는것 같은데
정확한 메카니즘을 이해할 수 없어서 문의드립니다.
왜 "+"값을 나타내는지에 대해 설명해 주실수 있는지요?
플라즈마 방전은 저품질이나 고품질 모두 이상없이 뜹니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [62] 1520
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 2312
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49510
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59719
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 75635
124 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 160
123 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 173
122 라디컬의 재결합 방지 [1] 227
121 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 235
120 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 248
119 anode sheath 질문드립니다. [1] 249
118 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 263
117 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 281
116 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 291
115 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 318
114 핵융합 질문 [1] 331
113 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 332
112 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 341
111 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 365
110 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 376
109 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 392
108 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 402
107 플라즈마 챔버 [2] 414
106 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 420
105 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 439

Boards


XE Login