모 반도체 회사 CVD 기술팀의 엔지니어입니다.

 RPS를 사용한 CLEAN을 DEPOSITION 이후 진행하는데 관련 특이 사항이 있습니다.

 오염원을 없애줘야할 CLEAN GAS가 반응의 매개체가 되어 오염을 일으키는 경우가 있다고 말하고 있는 사례가 있습니다. CLEAN GAS가 없을경우에는 오염이 안되다가 RPS ON하고 CLEAN이 들어가면 CHAMBER 쪽은 아닌데 특정부위에 오염이 생기는 형태입니다. 오염원의 성분분석 결과도 F성분이 많아서 유일한 공급원인 CLEAN이 오염을 유발한다는 현재까지의 상황입니다.

 물론, 그간 테스트에서도 분명 맹점이 존재할 수 있다는것은 염두해두고 있지만 저 또한 CLEAN GAS가 오염에 크게 관여한다는것까지는 받아들이고 있습니다. 온도, 압력 조건등이 보통의 경우라면 현재까지 F RADICAL로써 오염을 만드는 것에 대해서 알려진 것이 있을까요? 혹은 좀 다르게 오염의 직접적 매개체가 아니고서 오염이 된 이후에 단순히 추가 F가 달라 붙는 방식일 수는 없을까요? 기계쪽 전공자인데 플라스마 반응에 대해서 상당히 해석에 어려움이 많고, 지금 해당 문제에 대해서 시뮬레이션도 진행중인데 CLEAN GAS가 오히려 많이 들어가는 쪽이 또 실제 오염이 적은편인 것으로 나타나고 있어서 원래의 기능처럼 CLEAN GAS가 CLEAN을 못해준것이 오염원을 제거 못해서 발생하는 일인지 혼란이 있습니다. 다소 이곳의 일반적 질문과 다른 내용을 질문하는점에 대해서 양해말씀 드립니다.

 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [300] 77791
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20741
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57663
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69159
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93443
147 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [플라즈마 생성 반응] [1] 439
146 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 454
145 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 480
» 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 498
143 plasma striation 관련 문의 [1] file 517
142 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 530
141 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 538
140 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 544
139 핵융합 질문 [1] 587
138 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 595
137 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 621
136 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 627
135 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 643
134 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 647
133 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 706
132 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 749
131 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 781
130 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 795
129 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 806
128 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 812

Boards


XE Login