CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
2020.01.02 18:46
안녕하십니까?
이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.
그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,
그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.
에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.
(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)
확인 및 답변 부탁드립니다.
새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76726 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20175 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57166 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68696 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92275 |
99 | Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] | 1286 |
98 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1323 |
97 | DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] | 1330 |
96 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1354 |
95 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1394 |
94 | dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] | 1402 |
93 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1434 |
92 | N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] | 1442 |
91 | PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] | 1450 |
90 | 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] | 1483 |
89 | plasma 형성 관계 [1] | 1512 |
88 | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 1597 |
87 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 1607 |
86 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1660 |
85 | 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] | 1668 |
84 | ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] | 1734 |
83 | N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] | 1809 |
82 | 가입인사드립니다. [1] | 1880 |
81 | 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] | 1900 |
80 | RF generator 관련 문의드립니다 [3] | 1914 |
상기관련, 에쳐장비에서 HF/LF의 기본적으로 접지를 잡는방법이 궁금합니다.
또한 그라운드관련 그라운드 기능을 하는 하드웨어파트가 없어도, 큰 무리는 없는지 궁금합니다.
확인 부탁드립니다.
감사합니다.