CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련

2020.01.02 18:46

베컴 조회 수:19776

안녕하십니까?


이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.


그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,

그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.


에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.

(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)


확인 및 답변 부탁드립니다.

새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.

감사합니다.





번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20175
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
99 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1286
98 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1323
97 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1330
96 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1354
95 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1394
94 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1402
93 ICP lower power 와 RF bias [1] 1434
92 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1442
91 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1450
90 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1483
89 plasma 형성 관계 [1] 1512
88 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1597
87 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1607
86 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1660
85 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1668
84 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1734
83 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1809
82 가입인사드립니다. [1] 1880
81 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1900
80 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1914

Boards


XE Login