Remote Plasma RPS를 이용한 SIO2 에칭

2020.05.15 23:53

유재민 조회 수:1684

안녕하세요 교수님

현재 반도체업에 종사하고 있습니다. 궁금한 게 있어서 질문드립니다.

FSG, USG 공정 후 RPS로 Chamber cleaning 을 진행하고

Ignition에 AR 을 사용, 에칭에 NF3를 단독으로 사용하고 있습니다.

1. NF3 단독 사용과 NF3에 O2를 추가했을 때 장단점이 무엇이 있을까요?

2. NF3가 해리되고 N이 생성되어 질화막을 형성하면 Particle 원인이 될 수 있을까요?

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [88] 2549
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 13481
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49688
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61619
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 80197
» RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 1684
68 가입인사드립니다. [1] 1767
67 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 1878
66 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 1894
65 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 1917
64 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2156
63 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2285
62 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 2490
61 RPSC 관련 질문입니다. [2] 2496
60 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 2737
59 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 4497
58 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 4564
57 저온 플라즈마에 관해서 [1] 5871
56 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6159
55 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6291
54 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7178
53 remote plasma 데미지 질문 [1] 7753
52 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 7861
51 N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] file 8191
50 수중플라즈마에 대해 [1] 8250

Boards


XE Login