저는 광학박막 분야에서 sputter 장비를 이용하여 간섭필터를 코팅하고 있습니다.

sputter에 ICP를 같이 사용하여 기판에 증착된 Si와 반응가스를 결합시키는 용도로 사용하고 있습니다.

ICP코일 앞에 위치한 Quartz 표면에서 식각된 것 같은 모양새를 보여 원인분석에 있습니다.


질문1. ICP 쪽에 Self bias로 인해 Quartz가 식각되는 현상이 발생될 수 있는지 궁금합니다

질문2. Ar과 함께 들어가는 반응가스로 O2를 사용했을 때와 H2를 사용했을 때 ICP 쪽과 기판 쪽에서 어떤 현상들이 생기는지 궁금합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [88] 2549
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 13481
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49688
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61619
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 80197
69 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 1684
68 가입인사드립니다. [1] 1767
67 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 1878
66 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 1894
» 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 1917
64 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2156
63 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2285
62 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 2490
61 RPSC 관련 질문입니다. [2] 2496
60 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 2737
59 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 4497
58 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 4564
57 저온 플라즈마에 관해서 [1] 5871
56 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6159
55 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6291
54 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7178
53 remote plasma 데미지 질문 [1] 7753
52 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 7861
51 N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] file 8191
50 수중플라즈마에 대해 [1] 8250

Boards


XE Login