ICP 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다.
2020.08.21 15:03
저는 광학박막 분야에서 sputter 장비를 이용하여 간섭필터를 코팅하고 있습니다.
sputter에 ICP를 같이 사용하여 기판에 증착된 Si와 반응가스를 결합시키는 용도로 사용하고 있습니다.
ICP코일 앞에 위치한 Quartz 표면에서 식각된 것 같은 모양새를 보여 원인분석에 있습니다.
질문1. ICP 쪽에 Self bias로 인해 Quartz가 식각되는 현상이 발생될 수 있는지 궁금합니다
질문2. Ar과 함께 들어가는 반응가스로 O2를 사용했을 때와 H2를 사용했을 때 ICP 쪽과 기판 쪽에서 어떤 현상들이 생기는지 궁금합니다
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답변 1 : 발생합니다. 따라서 쿼츠 면 식각이 안테나 형태를 따라서 보다 심화되곤 합니다.
답변 2: 가스 종에 따른 플라즈마변화는 대부분 전력으로 보상하는 경향이 있습니다. 아울러 분자 종 플라즈마에서는 이온화 에너지, 해리-이온화 에너지 데이터를 찾아 보시면, 두 가스의 플라즈마 생성에 어떤 차이, 즉 필요 전력등을 이해할 수 있을 것입니다. 충돌 단면적 혹은 방응계수(rate constant) 데이터를 확보하시기를 추천드립니다.