안녕하세요. CVD쪽에서 일하고 있는 신입사원입니다.

너무 궁금한게 있는데 CCP에서 파워가 증가 -> 전극의 전압증가 ->챔버내 전기장 증가 -> 챔버내 전자 가속

-> 전자밀도증가(2차전자 생성하므로) -> 플라즈마밀도 증가(전자뿐만아니라 이온, 라디컬 등등 생성되므로 )

-> 임피던스 감소


여기서 플라즈마밀도 증가시 왜 임피던스가 감소되는지 모르겠습니다.

그냥 단순하게 플라즈마 밀도 증가하면 전류가 잘통해서 임피던스가 감소한다고 생각해왔는데 다시생각하니 플라즈마 내부는

플라즈마밀도 증가시 전류가 더 잘흐른다고 보기보다는 

플라즈마밀도 증가시 분극이 더 잘되므로 임피던스가 낮아진다 고 봤는데


저희 선배님이 그건 아니라고 하셨거든요. 아무리생각해봐도 이부분의 메카니즘이 어떻게 되는지 모르겠습니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
75 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2250
74 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2252
73 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2278
72 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2285
71 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2345
70 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2451
69 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2617
68 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2666
67 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2674
66 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3314
65 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3379
64 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3498
63 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3615
62 RPSC 관련 질문입니다. [2] 3968
61 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 4361
60 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4712
59 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 5932
58 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6358
57 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6408
56 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6618

Boards


XE Login