안녕하세요. 반도체 장비회사에 근무하고 있는 직장인 입니다.


다름아니고 플라즈마에 대해 공부하다보니 교수님이 저자로 들어가 있는 논문을 보게 되었는데요.


제목에서와 같이 좁은 간격 CCP에서 플라즈마 분포에 관한 논문 이었습니다. 

(논문 제목 : 좁은 간격 CCP 전원의 전극과 측면 벽 사이 플라즈마 분포)


본문에서 Fig6 에 대한 해석을 보면 확산 영역에서 전달된 전력은 방전 영역에서의 전달 전력의 10%밖에 되지 않는데, 그럼에도 불구하고 확산영역의 플라즈마 밀도가 방전영역의 플라즈마 밀도보다 높게 나타났다고 되어 있습니다.


하지만 Fig2의 그래프를 보면 확산영역의 플라즈마 밀도는 증가했다가 감소하는 구간은 있어도 방전영역보다는 작았습니다. 물론 Fig2는 실제 실험 결과이고 Fig6은 전산모사를 통해 해석한 결과이기는 하나 그에 따른 차이라고 하기엔 너무 오차가 커 보여서 질문 드립니다.


그리고 플라즈마의 정 가운데가 전자 밀도 즉 플라즈마 밀도가 가장 높기 때문에 기체의 여기반응이나 이온화 반응 역시 중심부에서 가장 자주 일어날 것 같은데, 전극의 가장자리부분에서 더 많이 일어나는 원인이 무엇인지 잘 모르겠습니다.


항상 많은 도움 얻어갑니다. 감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4911
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16246
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63756
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83571
55 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6321
54 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7275
53 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 7900
52 N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] file 8265
51 수중플라즈마에 대해 [1] 8307
50 Microwave 장비 관련 질문 [1] 8325
49 remote plasma 데미지 질문 [1] 8859
48 수중 방전 관련 질문입니다. [1] 9291
47 대기압 플라즈마에 대해서 9380
46 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. 9533
45 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] 9850
44 냉각수에 의한 Power Leak 14346
43 In-flight plasma process 15398
42 ICP TORCH의 냉각방법 15775
41 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] 15838
» 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16002
39 CCP 의 electrode 재질 혼동 16193
38 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 16581
37 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 16926
36 유전체 플라즈마 17277

Boards


XE Login