Plasma Source Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문)
2019.06.26 10:25
안녕하십니까.. 현재 반도체업계 종사중이며 Plasma 관련 일을 하고 있습니다.
다름이 아니오라 궁금한 점이 있어 이렇게 글을 올립니다.
Plasma에 의한 Gas 분해 및 치환 시 하기와 같은 예로
Zr[N(CH3)(C2H5)]4 ---->Zr + N + C + H (O2 Add)
-- Zr + O2 --->ZrO2
-- C + O2 -->CO2
-- N + N --> N2
-- 4H + O2 -->2H2O
반응하여 생성된다고 가정하였을 때
반도체 공정중에서 Plasma를 발생시켜 Source Gas 및 Add Gas를 반응시켰을 시
1. 생성되는 Powder 종류
2. 생성되는 Gas 종류
3. 항목 1~2에서 우선순위로 생성되는 Gas 및 Powder 종류
위 내용에 관련하여 조언 및 교육을 받고자 하오니 답변 부탁드리겠습니다.
이상입니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76543 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20078 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57116 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68615 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91697 |
155 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95476 |
154 | Plasma source type | 79618 |
153 | Silent Discharge | 64555 |
152 | 대기압 플라즈마 | 40676 |
151 | ICP 플라즈마에 관해서 [2] | 31945 |
150 | 플라즈마를 이용한 오존 발생장치 | 28895 |
149 | DBD란 | 27695 |
148 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 24979 |
147 | 플라즈마가 불안정한대요.. | 24508 |
146 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24295 |
145 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24261 |
144 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23371 |
143 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23254 |
142 | No. of antenna coil turns for ICP | 23079 |
141 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23039 |
140 | CCP/ICP , E/H mode | 22923 |
139 | 플라즈마의 발생과 ICP | 22113 |
138 | glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 | 21723 |
137 | 대기압플라즈마를 이용한 세정장치 | 21536 |
136 | 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [1] | 21510 |