저는 광학박막 분야에서 sputter 장비를 이용하여 간섭필터를 코팅하고 있습니다.

sputter에 ICP를 같이 사용하여 기판에 증착된 Si와 반응가스를 결합시키는 용도로 사용하고 있습니다.

ICP코일 앞에 위치한 Quartz 표면에서 식각된 것 같은 모양새를 보여 원인분석에 있습니다.


질문1. ICP 쪽에 Self bias로 인해 Quartz가 식각되는 현상이 발생될 수 있는지 궁금합니다

질문2. Ar과 함께 들어가는 반응가스로 O2를 사용했을 때와 H2를 사용했을 때 ICP 쪽과 기판 쪽에서 어떤 현상들이 생기는지 궁금합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20181
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92276
99 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4485
98 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4009
97 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3701
96 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3533
95 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3407
94 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3323
93 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2779
92 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2686
91 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2643
» 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2475
89 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2379
88 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2315
87 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2313
86 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2313
85 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2270
84 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2234
83 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2005
82 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1952
81 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1941
80 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1914

Boards


XE Login