안녕하세요. 교수님.

일전에 ICP에서 발생되는 self bias로 쿼츠가 식각될 수 있는지에 대해 문의드렸습니다.

그 때의 답변 감사드립니다.

 

이번에 여쭙고 싶은것은 그때와 이어지는 내용인데요.

저희의 실험(다층박막) 중 SiO2가 아닌 다른 물질을 증착 중 식각된 쿼츠에서 SiO2가 기판으로 날아와 일부 증착되는 것으로 예상이 됩니다.

그래서 여러가지 특성에 일부 영향을 주는데

쿼츠 쪽에서 발생되는 시각을 줄이기 위해 self bias를 줄일 방안을 생각해보았습니다.

그 중에 ICP영역(코일 전면부)에 영향을 주지 않는 선에서 anode를 장착하여 self bias를 만드는 전자들을 빼내어주는 방안을 생각해보았는데

이 경우 플라즈마 형성에는 문제가 없는지와 이 방법으로 정말 self bias를 줄여 식각현상을 줄이거나 없앨 수 있는지가 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [62] 1562
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 2433
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59732
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 75780
64 RPSC 관련 질문입니다. [2] 2241
63 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 2236
62 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2194
61 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [2] 1847
60 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 1802
59 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 1765
58 가입인사드립니다. [1] 1676
57 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 1654
56 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 1562
55 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1481
54 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 1338
53 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1303
52 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1233
51 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1222
50 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1217
» 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1136
48 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1079
47 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1065
46 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 1057
45 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1053

Boards


XE Login