안녕하세요. 반도체 관련 엔지니어로 근무하고 있는 직장인입니다.

현재 공정이 완료된 텅스텐 재료에 대기압 플라즈마를 가하여 정전기 제거를 하고있습니다.

Ar gas를 이용하였으며 정전기 측정장비로 제거 되는 것 까지는 확인 되었습니다.

추가로 여쭤보고 싶은 부분이 정전기 제거 후에도 반영구적으로 정전기가 발생하지 않는 것도 확인이 되는데요.

이 부분에 대해서는 관련 자료를 찾아보아도 나오는 부분이 거의 없어서요.

O, N 라디칼들이 계면에서 어떠한 에너지 반응을 일으키는 건지. 텅스텐 표면에 어떤 결합에너지에 영향을 주는 것인지 궁금하네요.

플라즈마를 통하여 정전기 방지가 유지되는 것이 어떠한 Process로 진행될 수 있는지 궁금합니다.

고견 여쭙겠습니다. 감사합니다.