질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92165 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76670
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20149
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57149
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68669
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92165
27 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23259
26 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23053
25 CCP/ICP , E/H mode 22962
24 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19774
23 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] 18875
22 capacitively/inductively coupled plasma 17800
21 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16646
20 CCP 의 electrode 재질 혼동 16484
19 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7647
18 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4867
17 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3520
16 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2262
15 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1604
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1443
13 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1256
12 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1052
11 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 991
10 anode sheath 질문드립니다. [1] 979
9 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 966
8 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 860
쓰기
태그

Boards

XE Login