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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[182]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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plasma striation 관련 문의
[1] | 316 |
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CCP RIE 플라즈마 밀도
[1] | 330 |
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연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준
[1] | 454 |
21 |
라디컬의 재결합 방지
[1] | 588 |
20 |
CCP Plasma 해석 관련 문의
[1] | 649 |
19 |
RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때
[1] | 656 |
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anode sheath 질문드립니다.
[1] | 697 |
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CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응
[1] | 713 |
16 |
Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance
[1] | 876 |
15 |
HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의
[1] | 890 |
14 |
PECVD와 RIE의 경계에 대해
[1] | 1126 |
13 |
CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다.
[3] | 1390 |
12 |
CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계
[1] | 1854 |
11 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.
[1] | 2221 |
10 |
CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요?
[3] | 2943 |
9 |
CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활
[1] | 7455 |
8 |
CCP 의 electrode 재질 혼동
| 16329 |
7 |
좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[2] | 16395 |
6 |
capacitively/inductively coupled plasma
| 17620 |
5 |
RF를 이용하여 Crystal 세정장치
[1] | 18820 |