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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69210
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93568
28 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 155
27 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 165
26 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 275
25 plasma striation 관련 문의 [1] file 518
24 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 622
23 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 629
22 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 824
21 라디컬의 재결합 방지 [1] 860
20 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 925
19 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 1050
18 anode sheath 질문드립니다. [1] 1067
17 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 1085
16 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1117
15 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1415
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1577
13 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1658
12 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2373
11 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3654
10 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 5602
9 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7700

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