CCP CCP Plasma 해석 관련 문의

2022.08.30 15:27

플라즈마공부 조회 수:354

 

안녕하세요 Plasma 해석 관련 공부 하고 있는 석사 과정 학생입니다. 

다름이 아니라, Plasma 해석 관련하여 몇가지 테스트를 진행하던 도중 궁금한 부분이 있어 질문드립니다.

 

1. 이미지와 같이 CCP Plasma 를 2D Axisymmetry 구조로 단순화하여 상용 S/W 를 통해 해석하고 있는데,

플라즈마 전자 밀도 분포가 Test Result2, 3 와 같이 Center Peak 점이 발생하였습니다. (13.56M, Ar only, Electrode Gap 30mm)

해석 조건 중 Test1 : 200V(약 13W), Test2 : 200W, Test3 : 500W 로 Bias Power만 상이 합니다.

기존에 해석된 예시의 그림을 보면 Test Result1과 같이 나와야 하는 것으로 알고 있습니다. 

해당 결과를 어떻게 봐야할지 모르겠습니다. 실제로 Electric Potential, Te, Ne값들이 일정한 값으로 수렴했습니다...

이러한 형상의 플라즈마가 형성될 수 있는 건가요? 도움 부탁드립니다...

 

2. 위 문제와 별개로 Wall(확산영역) Permittivity가 증가함에 따라 플라즈마 전자 밀도 변화에 대해 해석하였을때,  분포의 구배가 변하진 않지만, 전체적인 전자 밀도가 상승하였습니다. 해당 현상의 가장 주요한 원인이 벽면에서의 전위차의 크기가 바뀌어 플라즈마에 작용한 전기장의 세기가 커졌기 때문이라고 생각합니다. 이렇게 접근하는게 맞는지 궁금합니다...

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [127] 5573
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16855
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51343
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64186
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84148
23 plasma striation 관련 문의 [1] file 163
22 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 347
» CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 354
20 라디컬의 재결합 방지 [1] 460
19 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 507
18 anode sheath 질문드립니다. [1] 508
17 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 519
16 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 691
15 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 770
14 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 831
13 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 903
12 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1152
11 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1268
10 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2552
9 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7324
8 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16140
7 CCP 의 electrode 재질 혼동 16210
6 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 16618
5 capacitively/inductively coupled plasma 17519
4 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] 18775

Boards


XE Login