안녕하세요 교수님 유용한 답변 항상 잘 활용하고 있습니다.

 

제가 부족한 점이 많아 자꾸만 여기에 여쭙게 되네요.

 

저는 CCP Plasma를 base로 하는 장비를 주력으로 다루고 있습니다. 

 

저희는 RF를 Showerhead에 걸어주는데요. 

 

이번에 TC를 통해서 Plasma가 켜졌을 때 Showerhead의 온도 동향을 파악하는 평가를 하려고 합니다.

 

그래서 Showerhead에 TC를 달아서 온도를 측정하려고 합니다.

 

그런데, 제가 알기로는 TC는 온도에 따라 다르게 형성되는 전압을 측정해 온도를 측정하는 것으로 알고있습니다.

 

그래서 Showerhead에 강한 Power(2000~3000W)를 걸어주었을 때 TC에 어떤 문제가 생기지는 않을까 걱정이 됩니다.

 

교수님은 어떻게 생각하시는지요?

 

혹은 추천해주실만한 다른 측정법이 있으신지 궁금합니다.

 

항상 감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82174
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21881
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58669
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70292
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96041
29 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23338
28 CCP/ICP , E/H mode 23284
27 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) [ICP와 CCP의 heating] 23200
26 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19890
25 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [RF 방전과 이온 에너지] [1] 18947
24 capacitively/inductively coupled plasma [Heating mechanism과 coolant] 17868
23 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도] [2] 16786
22 CCP의 electrod 재질 혼동 [PECVD와 화학물 코팅] 16570
21 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [유전체 격벽 방전] [1] 7764
20 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 6303
19 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 3790
18 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선] [1] 2487
17 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1731
16 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 1702
15 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1559
14 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1195
13 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1181
12 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1165
11 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1153
» RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 999

Boards


XE Login