capacitively/inductively coupled plasma

한가지 잘 못 이해하고 있는 것이 있습니다. 전극이 반응기 내외부에 있는 여부로 ICP/CCP 플라즈마를 구별하지 않습니다.
일반적으로 capacitively coupled plasma 는 전극 사이에 형성되는 전기장에 의해 전자가속이 일어나 에너지를 얻어 이온화에
의해 만들어진 플라즈마를 의미하며 Inductively coupled plasma는 말 그대로 안테나에 흐르는 전류에서 형성된 자기장이 시간이
따라서 변할 때 자기장 주변으로 형성되는 전기장으로 부터 전자가 가속 에너지를 얻고 이온화를 통해 만들어진 플라즈마를
의미하는 말로써 써야 합니다. 물론 일반적인 ICP 반응기에서 CCP현상에 의한 플라즈마 발생이 일어나기도 합니다.
약간의 혼돈은 여기서 생길 수 있습니다만 두 현상을 구분해서 이해하는 것이 좋습니다.
아울러 다음 항을 참고하기 바랍니다. (271/259/225/205/126/95)
냉각수로 power leak가 있을 수도 있습니다. 일반 가정용 물을 냉각수로 사용하는 것은 좋은 방법이 아닙니다. 적어도 증류수를 사용하도록 하는 편이 옳습니다.