안녕하세요 Plasma 해석 관련 공부 하고 있는 석사 과정 학생입니다. 

다름이 아니라, Plasma 해석 관련하여 몇가지 테스트를 진행하던 도중 궁금한 부분이 있어 질문드립니다.

1. 이미지와 같이 CCP Plasma 를 2D Axisymmetry 구조로 단순화하여 상용 S/W 를 통해 해석하고 있는데,

플라즈마 전자 밀도 분포가 Test Result2, 3 와 같이 Center Peak 점이 발생하였습니다. (13.56M, Ar only, Electrode Gap 30mm)

해석 조건 중 Test1 : 200V(약 13W), Test2 : 200W, Test3 : 500W 로 Bias Power만 상이 합니다.

기존에 해석된 예시의 그림을 보면 Test Result1과 같이 나와야 하는 것으로 알고 있습니다. 

해당 결과를 어떻게 봐야할지 모르겠습니다. 실제로 Electric Potential, Te, Ne값들이 일정한 값으로 수렴했습니다...

이러한 형상의 플라즈마가 형성될 수 있는 건가요? 도움 부탁드립니다...

2. 위 문제와 별개로 Wall(확산영역) Permittivity가 증가함에 따라 플라즈마 전자 밀도 변화에 대해 해석하였을때,  분포의 구배가 변하진 않지만, 전체적인 전자 밀도가 상승하였습니다. 해당 현상의 가장 주요한 원인이 벽면에서의 전위차의 크기가 바뀌어 플라즈마에 작용한 전기장의 세기가 커졌기 때문이라고 생각합니다. 이렇게 접근하는게 맞는지 궁금합니다...