CCP plasma striation 관련 문의

2022.09.30 13:10

플라즈마공부 조회 수:461

 

안녕하세요 Plasma 해석 관련 공부 하고 있는 석사 과정 학생입니다. 매번 도움 주셔서 감사합니다 교수님.

 

다름이 아니라 plasma striation 현상에 대해 문의드리고 싶어 글 남깁니다.

 

일반적으로 반도체 드라이 에치 CCP 챔버에서는 저압 영역 (<100mTorr)에서 전극을 좁혀서 사용하는 것으로 알고있는데,

 

이때 Non Local electron kinetic에 의해 정전척의 직경 방향(x방향)으로 Plasma Striation 현상이 생긴다고 알고 있습니다.

(이미지 첨부하였습니다.)

 

Plasma Striation 현상이 발생하면 Plasma Uniformity가 안좋아지기 때문에 결과적으로 공정에 안좋은 영향이 될 것 같습니다.

 

1. Plasma Striation 현상이 있어도 Plasma Uniformity 를 위해 압력을 높이거나 Electrode 간격을 늘리지 않는 이유가 궁금합니다.

   (Plasma Striation 현상이 있더라도 공정에 미치는 영향성이 적어서 그런걸까요?)

 

2. Plasma Striation 현상을 보완하기 위한 실제적인 방법이 궁금합니다.

   (저압 조건일때 특히 Non Local electron kinetic이 잘 일어나는데 그렇다고 압력을 높이면 플라즈마 밀도가 떨어질 것이기 

    때문에 개선하기 위해 다른 여러 방법이 있을것 같습니다.)

 

3. Plasma Striation 현상을 기준하기 위한 방법이 있나요?

   상용 Fluid Model S/W에서 Simulation 으로 해석한 결과 Striation 현상같은데, 정확히 그 기준을 알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
26 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23254
25 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23038
24 CCP/ICP , E/H mode 22922
23 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19768
22 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] 18874
21 capacitively/inductively coupled plasma 17789
20 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16645
19 CCP 의 electrode 재질 혼동 16480
18 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7629
17 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4712
16 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3498
15 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2250
14 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1594
13 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1426
12 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1193
11 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1043
10 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 972
9 anode sheath 질문드립니다. [1] 959
8 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 948
7 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 850

Boards


XE Login