|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[266]
| 76649 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20146 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57146 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68668 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92120 |
|
30 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다.
[1]  | 79 |
|
29 |
ICP에서의 Self bias 효과
[1] | 86 |
|
28 |
skin depth에 대한 이해
[1] | 88 |
|
27 |
ICP에서 전자의 가속
[1] | 124 |
|
26 |
ICP 대기압 플라즈마 분석
[1] | 711 |
|
25 |
ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다.
[1] | 826 |
|
24 |
전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스)
[1] | 1051 |
|
23 |
공정플라즈마
[1] | 1142 |
|
22 |
ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!!
[1] | 1307 |
|
21 |
ICP lower power 와 RF bias
[1] | 1424 |
|
20 |
연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생
[1] | 1469 |
|
19 |
ICP reflecot power 관련 질문드립니다.
[1] | 1593 |
|
18 |
Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여
[1] | 1658 |
|
17 |
안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다.
[1] | 1666 |
|
16 |
유도결합 플라즈마 소스 질문!!!?
[2] | 1895 |
|
15 |
안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다!
[1] | 1939 |
|
14 |
Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다.
[1] | 2295 |
|
13 |
RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계
[1] | 2302 |
|
12 |
교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다.
[2] | 2305 |
|
11 |
안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다.
[2] | 2465 |
