안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76712
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20168
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68688
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92257
30 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 101
29 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 114
28 skin depth에 대한 이해 [1] 118
27 ICP에서 전자의 가속 [1] 132
26 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 714
25 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 831
24 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1058
23 공정플라즈마 [1] 1145
22 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1320
21 ICP lower power 와 RF bias [1] 1433
20 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1481
19 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1596
18 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1660
17 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1668
16 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1900
15 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1950
14 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2310
13 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2312
12 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2312
11 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2470

Boards


XE Login