안녕하세요

저는 SiO2 기판을 홀더 위에 두고 수소플라즈마를 띄워 실험을 진행하는데

이 기판이 부도체이다보니 기판에 전하가 빠져나가지 못하고 축적되는 것 같습니다.

이 기판의 charge effect를 챔버안 플라즈마를 띄운 상태에서 어떤 장비를 사용하여 실험적으로 어떻게 측정할 수 있는지 혹은 관련 논문이 있는지 알고싶습니다.

답변기다리고 있겠습니다. 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [324] 90970
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23332
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60022
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71837
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 100938
43 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 717
42 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 853
41 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 1025
40 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1108
39 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 856
38 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 1879
37 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [핵융합 연구소 자료] [1] 926
36 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링] [2] 3533
35 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2335
34 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy] [1] 1998
33 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1609
32 Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정] [1] 2543
» charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1765
30 Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정] [2] 1617
29 고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격] [1] file 1255
28 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [전자전류의 해석] [1] 1591
27 OES 원리에 대해 궁금합니다! [플라즈마 빛의 파장 정보] [1] 27621
26 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [Langmuir probe와 ground] [1] file 1270
25 VI sensor를 활용한 진단 방법 [Monitoring과 target] [2] 3268
24 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [B-dot probe, plasma diagnostics] [1] 1479

Boards


XE Login