OES Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링]
2020.09.11 17:48
안녕하세요.
우선 늘 성실하게 답변을 해주셔서 감사드립니다. 연구에 큰 도움이 되고 있습니다
Plasma Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 두껍게 증착시키고자 합니다.
실험의 목적은 Viewport Winodw에 증착된 Polymer가 유발하는 투과율의 변화를 OES를 통해 확인하는 것입니다.
가능한 한 두껍게 Polymer를 증착시키고 싶은데 Gas 및 Chamber 환경을 어떻게 조성해야 이런 환경을 만들 수 있을지 알려주신다면 감사하겠습니다!
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공정 진단 방법 개발의 일환으로 보입니다만, 장비 및 방전 구조에 따른 변수가 많습니다.
만일 하기 운전조건이라면 쉽지 않아 보이며, 그 이유에 대해서는 아래 질문의 답변을 참고하시기 바랍니다.
하지만 다른 구조 및 운전 영역에서 ONO 공정 중 질화막 모니터링 방법에 대한 연구 결과가 있으니 기술 개발에 참고해 보세요.
본 연구실 발표 2018년 "Development of the Virtual Metrology for the Nitride Thickness in Multi-Layer Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Plasma-Information Variables" IEEEPS.