Matcher MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?

2008.10.23 12:22

바람그만필께 조회 수:22576 추천:425

안녕하세요.

삼성전자 반도체 사업장에서 일하는 DIFF PROCESS ENG'R 입니다.

얼마 전에 사내 PLASMA 강의를 듣고 사이트를 알게 되었습니다.

M.N. (Matching Network) 에서 R.F 인가시 Backword bias 가 걸리는 이유가 알고 싶습니다.

SLEF BIAS 하고 연관이 있는 건지요?

SELF BIAS 가 걸린 것이 Backword bias 처럼 보이는 건지 실질적으로 Backword Bias 가 형성되는  건지 알고 싶습니다.

대학에서 재료공학을 전공해서 전자공학에 대해 무지합니다.

교수님의 답변 기다리겠습니다.

감기 조심하시고 건강하세요...

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76677
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20151
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57151
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68672
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92182
121 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47801
120 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41219
119 Ground에 대하여 39378
118 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35888
117 matching box에 관한 질문 [1] 29662
116 Arcing [1] 28639
115 esc란? 28065
114 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27605
113 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27207
112 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26463
111 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26178
110 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25581
109 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24846
108 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24770
107 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24743
106 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24556
105 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23329
104 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22939
103 Peak RF Voltage의 의미 22598
» MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22576
쓰기
태그

Boards

XE Login