공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[233]
| 75734 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 19417 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 56647 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 67965 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 90140 |
37 |
ICP 플라즈마 매칭 문의
[2] | 21122 |
36 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24652 |
35 |
[질문] 석영 parts로인한 특성 이상
[1] | 19781 |
34 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23239 |
33 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22873 |
32 |
안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다.
[1] | 47482 |
31 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25533 |
30 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24720 |
29 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 24379 |
28 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 27138 |
27 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 41006 |
26 |
석영이 사용되는 이유?
[1] | 19894 |
25 |
전자파 누설에 관해서 질문드립니다.
[1] | 21035 |
24 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 25892 |
23 |
matching box에 관한 질문
[1] | 29563 |
22 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22155 |
21 |
Arcing
[1] | 28261 |
20 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24711 |
19 |
CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1] | 20270 |
18 |
scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다.
[2] | 19149 |