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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[265]
| 76538 |
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20075 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57115 |
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다.
[1] | 7061 |
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플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의..
[1] | 6452 |
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ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의
[1] | 9816 |
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플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ
[1] | 9905 |
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ICP 플라즈마 매칭 문의
[2] | 21181 |
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ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24735 |
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[질문] 석영 parts로인한 특성 이상
[1] | 19830 |
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HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23317 |
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다.
[1] | 47761 |
31 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25579 |
30 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24827 |
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 24528 |
28 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 27204 |
27 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 41190 |
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석영이 사용되는 이유?
[1] | 19999 |
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전자파 누설에 관해서 질문드립니다.
[1] | 21098 |
24 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 26124 |
23 |
matching box에 관한 질문
[1] | 29651 |
22 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22229 |