Others 고진공 만드는방법.

2017.12.15 22:16

즙즙 조회 수:1008

background pressure 이 10^-7이 되게 하려면

단순히 diffusion pump 와 rotary oil pump만을 이용해서 만들수있나요??


그리고 전체적인 구조는 어떻게 될가요. background pressure 가 10^-7이면 

ultrahigh vac을 만드려고 하는거 같은데 ion pump 나 TSP가 추가돼야 할까요?

단순하게 이론적으로 궁금하네요.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20184
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
62 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 634
61 Si Wafer Broken [2] 2511
60 MATCHER 발열 문제 [3] 1429
59 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2312
58 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4320
» 고진공 만드는방법. [1] 1008
56 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1459
55 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2227
54 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1870
53 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1463
52 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 657
51 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5900
50 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8136
49 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2493
48 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7226
47 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1911
46 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8643
45 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1950
44 ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. file 16946
43 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5806
쓰기
태그

Boards

XE Login