ESC ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
2017.12.18 05:12
반도체 업종에서 근무하는 사원 입니다.
PVD Chamber에서 ESC 사용하는데 Center tap bias의 역할과 Center tap bias로 생길 수 있는 문제점에 대해서
궁금하여 질문 드립니다..
아직 초년생이라 장비 manual을 보는데도 애로사항이 많아 문의 드립니다.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76713 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20169 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57164 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68693 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92269 |
| 81 | Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] | 546 |
| 80 | 알고싶습니다 [1] | 1455 |
| 79 | Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] | 2815 |
| 78 |
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다.
[1]  | 1597 |
| 77 | Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] | 3188 |
| 76 | Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] | 3913 |
| 75 | Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] | 3686 |
| 74 | matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] | 10342 |
| 73 | 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] | 839 |
| 72 |
임피던스 매칭회로
[1] | 2804 |
| 71 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1156 |
| 70 | chamber impedance [1] | 2009 |
| 69 | 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] | 5063 |
| 68 | Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] | 6269 |
| 67 | matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] | 3178 |
| 66 | dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] | 3500 |
| 65 | 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] | 2329 |
| 64 | ESC Cooling gas 관련 [1] | 3526 |
| 63 |
CCP 챔버 접지 질문드립니다.
[1] | 1324 |
| 62 | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 633 |