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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화]
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matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance]
[3] | 3381 |
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dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성]
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임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property]
[4] | 2514 |
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ESC Cooling gas 관련 [ESC 온도 제어]
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CCP챔버 접지 질문드립니다. [장치의 접지 일체화]
[1]  | 1419 |
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RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화]
[1] | 720 |
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SI Wafer Broken [Chucking 구동 원리]
[2] | 2712 |
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MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance]
[3] | 1529 |
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PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAT <-> STAGE HEATER 간 GAP과 DEPO 막질의 THK와의 연관성…. [Plasma property와 process control]
[1] | 2515 |
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ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
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고진공 만드는방법. [System material과 design]
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rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning]
[1] | 1547 |
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Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load]
[1] | 2399 |
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CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap]
[1] | 1945 |
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Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching]
[1] | 1554 |
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analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리]
[1] | 817 |
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안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [VI probe]
[3] | 6120 |
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RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [연속공정]
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플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [최적 정합 조건 및 정합 시간]
[2] | 2631 |
