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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24605 |
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 27003 |
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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석영이 사용되는 이유?
[1] | 19777 |
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전자파 누설에 관해서 질문드립니다.
[1] | 20974 |
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dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 25567 |
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matching box에 관한 질문
[1] | 29421 |
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Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22030 |
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Arcing
[1] | 27856 |
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RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24640 |
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CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1] | 20170 |
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scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다.
[2] | 19072 |
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공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 26171 |
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22480 |
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Ground에 대하여
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Peak RF Voltage의 의미
| 22341 |
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electrode gap
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Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다.
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반응기의 면적에 대한 질문
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