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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68685
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92246
41 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7086
40 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6468
39 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9849
38 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 9957
37 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21189
36 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24747
35 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19834
34 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23332
33 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22940
32 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47816
31 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25581
30 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24849
29 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24571
28 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27208
27 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41232
26 석영이 사용되는 이유? [1] 20018
25 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21110
24 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26182
23 matching box에 관한 질문 [1] 29665
22 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22239
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