Matcher matching box에 관한 질문

2010.05.05 13:54

김정욱 조회 수:29665 추천:212

안녕하세요...
저는 반도체 회사에서 근무하는 사람입니다..
matching box 관련하여 질문이 있어서 글을 올립니다..
현업에서 matching box관련 monitoring하는 parameter중 Load position과 Tune position이란 게 있습니다..
여기 사이트에서 load capacitor와 tune capacitor 얘기가 언급되어 아마 capacitor 관련 용어인 것으로 짐작
되어 지는데 정확한 의미와 역할을 알고 싶습니다..
제 나름대로 확인한 바로는 impedance matching은 L nework와 Pi network가 있는데 위에서 언급한 Load
capacitor와 Tune capacitor는 Pi network에서 사용되는 2개의 capacitor 이름인가요?
답변 부탁 드립니다..

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20190
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
42 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7617
41 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7087
40 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6470
39 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9849
38 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 9962
37 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21192
36 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24747
35 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19836
34 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23332
33 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22943
32 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47824
31 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25582
30 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24853
29 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24581
28 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27209
27 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41237
26 석영이 사용되는 이유? [1] 20021
25 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21110
24 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26185
» matching box에 관한 질문 [1] 29665
쓰기
태그

Boards

XE Login