안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
41 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7064
40 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6453
39 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9816
38 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 9909
37 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21183
36 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24735
35 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19830
34 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23317
33 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22931
32 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47764
31 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25579
30 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24830
29 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24528
28 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27205
27 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41192
26 석영이 사용되는 이유? [1] 20000
25 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21098
24 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26127
23 matching box에 관한 질문 [1] 29651
22 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22229

Boards


XE Login