안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75427
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19164
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56480
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67559
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89369
36 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24629
35 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19771
34 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23218
33 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22854
32 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47325
31 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25509
30 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24684
29 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24320
28 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27099
27 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 40905
26 석영이 사용되는 이유? [1] 19851
25 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21006
24 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25776
23 matching box에 관한 질문 [1] 29532
22 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22116
21 Arcing [1] 28145
20 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24678
19 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] file 20239
18 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19120
17 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26294

Boards


XE Login