안녕하세요. ICP 타입 Dry Etcher 장비사에서 근무하는 엔지니어입니다.

 

효율적이고 안정적인 매칭을 위해 Matcher 의 Matching Network 구성을 변경시키곤 합니다.

 

여기서 궁금한 점이 생겨 교수님께 문의 드립니다.

 

1. 플라즈마 안정화시 [기존 Matcher + Chamber] 의 임피던스가 8+j5 라고 가정했을때,
 Matcher 의 L 또는 C의 H/W를 변경시켜도 [Matcher + Chamber] 가 동일하게 8+j5 값을 갖도록 Tune / Load 가 움직이는지

 아니면 기존과 다른 [Matcher + Chamber] 임피던스 값을 갖게 되는지 궁금합니다.
 ※ 변경 전/후 모두 플라즈마는 안정적

 

2. Matcher Matching Network 구성 변화가 임피던스 범위 변동 외에 플라즈마 방전시 챔버 임피던스에 영향에 주는지
 ※ 오직 Matcher 구성만 변경된것으로 가정

 

이론적으로 어떻게 접근/해석해야하는지 도움 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
121 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 37
120 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 56
119 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 146
118 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 312
117 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 337
116 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 338
115 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 380
114 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 391
113 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 455
112 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 505
111 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 538
110 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 542
109 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 578
108 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 617
107 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 629
106 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 650
105 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 652
104 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 678
103 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 721
102 RF 파워서플라이 매칭 문제 800

Boards


XE Login