안녕하세요 반도체 장비회사에서 인턴으로 일하고있습니다.


pecvd장비를 이용해 ACL(amorphous carbon layer)을 올리는데 박막 stress를 줄여보고자 analog tuner를 chamber side bottom에 달았습니다.


여기서 궁금한 것은 analog tuner가 어떤 원리로 쓰여지는건지 궁금합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4910
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16244
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63756
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83570
108 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 22
107 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 29
106 Plasma Arching [1] 101
105 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 204
104 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 220
103 RF 파워서플라이 매칭 문제 [1] 289
102 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 386
101 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 419
100 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 420
» analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 436
98 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 438
97 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 488
96 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [2] 498
95 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 535
94 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 605
93 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 612
92 알고싶습니다 [1] 631
91 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 633
90 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [2] 682
89 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 775

Boards


XE Login