안녕하세요.

반도체 장비를 생산하는 업체의 연구실 소속 최재혁이라고 합니다.

자사가 생산하는 제품중에 오존 발생기가 있으며 이 생산 제품의 주요 부품에 대해서는 

전량 수입에 의존 하고 있습니다.

언급된 주요 부품에 대해서 설명을 드리면 Chamber로 이루어진 발생장치 안에 O2를 

주입하고 촉매제와 플라즈마를 이용하여 O3를 발생시키는 역할로서 발생기의 핵심이라

고 할 수 있습니다.

자사 보안 규정에 따라 자세한 내용을 설명드릴 수 없는 점 양해를 부탁 드립니다, 

핵심 기술에 대한  위탁 및 공동 연구개발을 계획하고 있습니다.

교수님께서 시간이 되시면 저희 회사 인원과 함께 찾아 뵙고 프레젠테이션을 진행 했으

합니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73077
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17643
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65730
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86105
110 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 109
109 ESC DC 전극 Damping 저항 256
108 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 321
107 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 329
106 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 452
105 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 465
104 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 473
103 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 498
102 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 498
101 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 506
100 RF 파워서플라이 매칭 문제 523
99 Plasma Arching [1] 546
98 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 637
97 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 639
96 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 683
95 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 692
94 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 804
93 고진공 만드는방법. [1] 852
» 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 857
91 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 872

Boards


XE Login