반도체 업종에서 근무하는 사원 입니다.


PVD Chamber에서 ESC 사용하는데 Center tap bias의 역할과 Center tap bias로 생길 수 있는 문제점에 대해서


궁금하여 질문 드립니다..


아직 초년생이라 장비 manual을 보는데도 애로사항이 많아 문의 드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [180] 74896
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18754
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56231
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66719
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88083
70 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 1899
69 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 1956
68 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 1996
67 Si Wafer Broken [2] 2120
66 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2189
65 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2192
64 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 2313
63 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2324
62 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2434
61 임피던스 매칭회로 [1] file 2439
60 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 2491
59 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 2706
58 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 2708
57 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 2950
56 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3093
55 ESC Cooling gas 관련 [1] 3220
» ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4023
53 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4700
52 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4986
51 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5395

Boards


XE Login