김곤호 교수님 안녕하세요~~


저는 ESC를 만드는 업체에 근무를 하고 있습니다. (Display용 ESC, monopolar)


일을 하다보니 궁금한게 많은데 논문을 찾아보고 해도 잘 이해가 안되는 부분들이 있어서 글을 올립니다.


1. Dry etcher 공정중에 온도가 변화하면 ESC의 chucking force가 변화하나?

반도체 ESC에서는 비저항을 낮추기 위해 여러가지 물질들을 섞어서 chucking force를 증가시키고, 또한 공정중에 온도를 올려주면

비저항이 떨어져 Chucking force가 증가한다고 논문에 나와있습니다.

그럼 monopolar용 Al2O3를 기반으로 만든 대면적 dry etcher용 ESC는 온도가 올라가면 Chucking force가 달라질까요?

제 생각은 알루미나의 유전율이 바뀌지 않기 때문에 chucking force에 변화가 없을것으로 생각되어지는데 맞는지요?

2. 진공상태와, Air, 습도에 따라 당연히 Chucking force가 변화하는 걸로 알고 있습니다,

그럼 공정중 압력의 변화가 있으면 Chucking force가 변화할까요?

1mTorr, 10mTorr에서 같은 파워에서는 플라즈마 밀도가 다르기때문에 이온들이 더 많이 끌려오는 10mtorr가 chucking force가 높을것으로 사료되는데 맞는지요? 또한 가스 유량 없이 펌핑만할경우에는 압력의 변화에 chucking force가 변화가 없는게 맞나요?

3. 디스플레이에서 유리 기판을 chucking을 하는데 dummy glass와 metal이 증착되어진 glass의 chucking력이 다른지요? 

제 생각은 metal이 증착되어 있는 glass가 chucking력이 높을거 같은데 이유는 glass위에 증착되어진 metal이 capacitance 역할을 하여 chucking force가 증가할거 같습니다.


저의 궁금한점과 짧은 생각을 적어놓았는데 시간 되실 때 답변을 해주시면 감사하겠습니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5852
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17318
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53139
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64532
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85142
69 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 1785
68 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 1874
67 Si Wafer Broken [2] 1973
66 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 2006
65 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2045
64 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2082
63 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 2133
62 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 2221
61 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2234
60 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 2268
59 임피던스 매칭회로 [1] file 2270
58 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2272
» dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 2429
56 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 2825
55 ESC Cooling gas 관련 [1] 3045
54 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3892
53 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 4006
52 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4547
51 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4748
50 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5236

Boards


XE Login