이제 막 Plasma라는 것에 첫발을 딛은 직장 입니다. 

 

주파수는 13.56Mhz 사용 중입니다. 

 

공정 Power가 500W -> 1000W로 올렸더니 Load position이 내려 갔습니다. 

 

RF power가 상향되면 Load position이 내려가는 이유를 잘 모르겠습니다. (기계공학전공입니다.)

 

Load position이 내려가는 이유를 알려주실수 있을까요? 

 

감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5852
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17318
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53139
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64532
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85142
69 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 1785
68 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 1874
67 Si Wafer Broken [2] 1973
66 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 2005
» Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2045
64 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2082
63 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 2133
62 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 2221
61 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2234
60 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 2268
59 임피던스 매칭회로 [1] file 2270
58 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2272
57 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 2429
56 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 2825
55 ESC Cooling gas 관련 [1] 3045
54 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3892
53 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 4006
52 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4547
51 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4748
50 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5236

Boards


XE Login