ESC Dry Etcher 내 reflect 현상

2009.08.07 13:39

김기권 조회 수:22030 추천:209

안녕하세요 저는 Dry Etcher 네 세라믹 Coating Type 정전척 ESC 만드는 회사에 다니고 있습니다.
다름이 아니라 고객사에서 Dry Etcher 장비 의 Reflect현상이 발생했다고 하는데 , 이현상에 대해 설명 부탁드립니다.
아울러 이 현상과 ESC 연관성에 대해서도 설명 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] 74880
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18735
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56223
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66682
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 87989
30 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19072
29 CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 19235
28 MFC 19244
27 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19737
26 석영이 사용되는 이유? [1] 19777
25 플라즈마 matching 19892
24 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] file 20170
23 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 20974
22 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21016
» Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22030
20 Peak RF Voltage의 의미 22341
19 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22480
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22806
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23179
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24203
15 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24571
14 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24605
13 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24640
12 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25483
11 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25567

Boards


XE Login