안녕하세요?

플라즈마 응용연구실 인원 여러분

저는 성대 박사과정으로 있는 박형식이라고 합니다.

다름이 아니오라 제가 새벽에 실험 중에 갑작스런 현상이 발생한 것에 대해 궁금한 것이 이렇게 질문을 하게 되었습니다.

제가 스퍼터에 대해 실험 중에 DC 파워를 인가하는 중에 DC 파워 디스플레이에 high impedance란 메시지가 떴습니다.

혹시 몰라 일단 DC 파워는 off 시킨 상태이구요.

원인이 정확히 무엇인지 알고 싶습니다.

기타 실험 조건들에 대해서는 아래 적어 놓겠습니다. 확인하시고 답변 주시면 감사하겠습니다.
--> 압력 : 0.5mtorr (Ar 10 sccm), 파워 500W, 온도  240oC, Tilt 각도 : 40 deg, 거리 가변 불가, 5rpm
타겟은 산화물 타겟이며 Al2O3 2wt.% doped ZnO 타겟입니다.
DC 파워는 피에스 플라즈마 SDC1024A 이고 파워 범위는 최대 2kW입니다.

혹 챔버 용량에 비해 가스량이 적으면 문제가 되는 것인지? 아니면 다른 문제인지..알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73080
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17644
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65737
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86107
30 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19033
29 CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 19200
28 MFC 19220
27 석영이 사용되는 이유? [1] 19703
26 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19710
25 플라즈마 matching 19810
24 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] file 20124
23 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 20944
22 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 20966
21 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21965
20 Peak RF Voltage의 의미 22284
19 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22449
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22774
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23146
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24146
15 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24526
14 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24534
13 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24599
» 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25451
11 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25463

Boards


XE Login