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| 번호 | 제목 | 조회 수 |
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| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [219] | 75415 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19148 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56477 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67542 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89320 |
| 16 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 24317 |
| 15 | ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] | 24629 |
| 14 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24676 |
| 13 | Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] | 24681 |
| 12 | 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? | 25508 |
| 11 | dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] | 25767 |
| 10 | 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] | 26290 |
| 9 | 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] | 27098 |
| 8 | 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 | 27420 |
| » | esc란? | 27912 |
| 6 | Arcing [1] | 28139 |
| 5 | matching box에 관한 질문 [1] | 29530 |
| 4 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35404 |
| 3 | Ground에 대하여 | 38754 |
| 2 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 40896 |
| 1 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47314 |