안녕하세요.

저는 RF Generator의 power amlifier를 연구하고 있는 학생입니다.

 

Load impedance를 50 ohm으로 설계를 했는데 matcher가 없을 때의 power amlifier의 성능을 확인하고자 합니다.

Chamber impedance의 범위가 어떻게 되는지 질문드립니다.

감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [299] 77529
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20605
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57540
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69046
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93201
27 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19859
26 석영이 사용되는 이유? [1] 20092
25 플라즈마 matching 20313
24 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] file 20429
23 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21148
22 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21233
21 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22296
20 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22600
19 Peak RF Voltage의 의미 22661
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22965
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23360
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24679
15 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24798
14 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24808
13 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24945
12 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25604
11 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26306
10 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26544
9 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27269
8 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27717

Boards


XE Login