Chamber Impedance Reflrectance power가 너무 큽니다.

2010.06.01 23:24

최두호 조회 수:24830 추천:146

안녕하세요.
저는 미국 카네기멜론 대학 재료공학과 박사과정에 재학중인 최두호라고 합니다.

rf 스퍼터링 시스템이 랩에 있는 데, 예전에는 rf 스퍼터로 SiO2를 증착하였는 데(reflectance power는 거의 0), 언제부턴가 reflectance power가 너무 큽니다. (forward가 100W 이면, reflectnace power는 70 W 정도).

Advanced Energy 사의 controller를 쓰는 데요, 주로 오토모드로 사용을 합니다. 매뉴얼 모드로 하면 오히려 reflectance power가 더 올라가더라구요.

그래도 플라즈마 glowing은 유지가 되구요. (rf 자체로는 되지가 않고, 같은 chamer에 연결된 dc로 먼저 플라즈마를 만들고, rf를 켜고, dc를 끄면 plasma가 유지가 됩니다.)

그런데, dc bias가 너무 낮네요. 예전에 제대로 동작할 때는 fowrad bias가 100 W 일 때, dc bias가 -200 V  정도 되었는 데요, 현재는 -60~70V 밖에 되지 않습니다. 그래서 forward를 올리니까 dc bias도 커지더군요. (reflectance power도 올라갑니다)
이런 식으로 해서 forward를 증가시켜 dc bias를 증가시키는 방법으로 해도 장비나 케이블에 무리가 가지 않나요?

재료과라서 impednace에 대해 거의 모릅니다. 쉽게 설명해주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76541
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20077
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
121 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47764
120 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41192
119 Ground에 대하여 39313
118 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35826
117 matching box에 관한 질문 [1] 29651
116 Arcing [1] 28626
115 esc란? 28056
114 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27589
113 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27205
112 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26455
111 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26127
110 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25579
» Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24830
108 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24763
107 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24735
106 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24528
105 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23317
104 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22931
103 Peak RF Voltage의 의미 22579
102 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22571

Boards


XE Login