안녕하세요.

반도체 관련 업종에 취직한 신입입니다.

현재 사내 플라즈마 테스트 장비에서의 매쳐 값을 검토 하는 중 막히는 부분이 있는 중

장비를 뜯어보기도 어렵고, 전임자는 이미 퇴사하여 혼자 이것저것 찾으며 하려니 도움 청할데가 마땅히 없어서 글 올립니다..


매쳐의 테스트 결과 데이터를 뜯어본 내용은 다음과 같습니다

 XC1 = (READ_AIO(RF_LOAD) + 0.00001) * 15 * 0.000000000001;
 XC2 = (READ_AIO(RF_TUNE) + 0.00001) * 5 * 0.000000000001;
 A = 3.141592 * 2 * 13560000;

 d1 = Power(50, 2);  제곱
 d2 = Power(1 / (A * XC1), 2);  제곱
 R = (50 * d2) / (d1 + d2);
 J = -(d1 * 1 / (A * XC1)) / (d1 + d2) + (A * 0.0000012) - (1 / (A * XC2));

결과는 대략  z=2.269+j56.126 정도 나옵니다.


얕은 지식으로는 XC1, XC2는 매쳐에서의 직, 병렬 가변 커패시터 값을,

A는 각속도 ω, J 에서 (A * 0.0000012) 값은 인덕터 값으로 보여집니다.


하지만 이외의 값들은 어떻게 저런 계산이 도출되었는지 이해가 되지 않습니다.

일반적인 L 타입 매쳐는 아닌 것으로 보여 상기 값으로 매쳐의 임피던스가 도출 되려면 어떤 회로로 구성되어있는지 알고 싶습니다.

도움 부탁 드립니다.


감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
41 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1587
40 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1485
39 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1477
38 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1456
37 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1449
36 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1445
35 알고싶습니다 [1] 1438
34 MATCHER 발열 문제 [3] 1425
33 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1383
32 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1318
31 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1249
30 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1146
29 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1118
28 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1099
27 Plasma Arching [1] 1024
26 고진공 만드는방법. [1] 1001
25 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1001
24 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 951
23 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 862
» 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 835

Boards


XE Login