안녕하세요

측정장비 분야에서 일하고 있는 연구 엔지니어입니다.

 

ICP(13.56MHz) 이용해 플라즈마 띄우고 Standard L-type Matching Network 사용중입니다.

Matcher에 대해 어느정도 이론은 이해했다고 생각했는데 현실은 다르네요.

 

안테나와 Matcher 間 거리, 안테나의 길이, Clamp로 엮는 위치 등등 모든게 변수가 되는 것 같습니다...

이러한 이유로 Plasma를 띄운 후 Current 값이 계속해서 안정적이지 못하고 뛰는 것 같은데 혹시 이러한 값들도 영향을 미치나요?

 

혹시 최선의 값을 알고 계신다면 알려주시면 진심으로 감사하겠습니다.

바쁘신 연구 와중에도 항상 저희에게 도움을 주셔서 감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
41 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1587
40 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1485
39 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1478
38 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1456
37 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1449
36 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1445
35 알고싶습니다 [1] 1438
34 MATCHER 발열 문제 [3] 1425
33 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1383
32 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1318
31 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1249
30 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1146
29 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1118
28 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1099
27 Plasma Arching [1] 1024
26 고진공 만드는방법. [1] 1001
» RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1001
24 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 951
23 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 862
22 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 835

Boards


XE Login