질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:74202 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [54] 1201
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 954
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49376
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59493
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 74202
98 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 42608
97 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 39420
96 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 34152
95 Ground에 대하여 31154
94 matching box에 관한 질문 [1] 28789
93 esc란? 26794
92 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 26730
91 Arcing [1] 26583
90 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [1] 26258
89 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25612
88 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25255
87 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24724
86 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24398
85 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24173
84 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24153
83 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23722
82 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22944
81 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22584
80 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22254
79 Peak RF Voltage의 의미 21952

Boards


XE Login