Others Peak RF Voltage의 의미

2004.06.28 01:58

이석환 조회 수:22603 추천:266

질문

안녕하세요...

제가 사용중인 Matching Network 상에 RF Peak Volt가 Display되는데요.
이것의 의미가 궁금하구요, 이 Voltage와 Power와는
어떠한 관계가 있는지 궁금합니다.

감사합니다,.


답변

CCP 나 ICP의 전극이나 안테나에 인가되는 Power은
Current x Voltage 입니다. 여기서 전류나 전압값은 rms 값으로
peak 값의 1/sqrt(2) 값을 뜻하지요. 즉, peak 값은 약 70%에 해당합니다. 따라서 표시되는 전압은 CCP의 경우 power electrode에 인가되는
전압이며 ICP의 경우 안테나에 걸리는 전압의 peak 값입니다. 만일 전류가 일정하다면 전압의 크기가 커지게 되면 당연히 인가 전력이 증가하합니다.  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20182
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68698
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92276
122 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47824
121 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41237
120 Ground에 대하여 39403
119 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35910
118 matching box에 관한 질문 [1] 29665
117 Arcing [1] 28644
116 esc란? 28068
115 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27617
114 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27209
113 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26468
112 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26185
111 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25582
110 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24853
109 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24772
108 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24747
107 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24580
106 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23332
105 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22943
» Peak RF Voltage의 의미 22603
103 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22579

Boards


XE Login