안녕하세요.

삼성전자 반도체 사업장에서 일하는 DIFF PROCESS ENG'R 입니다.

얼마 전에 사내 PLASMA 강의를 듣고 사이트를 알게 되었습니다.

M.N. (Matching Network) 에서 R.F 인가시 Backword bias 가 걸리는 이유가 알고 싶습니다.

SLEF BIAS 하고 연관이 있는 건지요?

SELF BIAS 가 걸린 것이 Backword bias 처럼 보이는 건지 실질적으로 Backword Bias 가 형성되는  건지 알고 싶습니다.

대학에서 재료공학을 전공해서 전자공학에 대해 무지합니다.

교수님의 답변 기다리겠습니다.

감기 조심하시고 건강하세요...

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102230
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24580
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61234
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73322
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105554
132 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type] [1] 48893
131 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41652
130 Ground에 대하여 40064
129 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion] 36410
128 matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] 30039
127 Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시] [1] 28966
126 esc란? 28284
125 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 [Matching과 particle] 28015
124 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27584
123 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [ESC와 capacity] [3] 26926
122 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태] [2] 26849
121 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25708
120 Reflrectance power가 너무 큽니다. [RF matching과 breakdown] [1] 25306
119 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model] [1] 25216
118 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 25022
117 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24990
116 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23472
115 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 23075
114 Peak RF Voltage의 의미 22837
» MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22815

Boards


XE Login