그림1.png

재미있는 Data 이군요.

저도 일전에 한번 경험해 보았습니다.
더 재미 있는 것은, 공정상에는 DR(뎁레잇)에 영향이 없다는 것이죠. Unifomity만 좀 떨어지는 것 이외에는...

Refpwr의 변함에 따라, Photo Sensor의 Lightness에 증감이 있는 것으로 보아, Plasma의 Electron Density는 변동에 따른 것이라 유추만 하고 있습니다. 정확한 것은 PSD 나 L/Probe 같은 Tool로 봐야 알 수 있을 것 같더군요. VI나 OES로는 별 연관성이 찾기 어려웠습니다.
해당 부분의 이유를 찾기 어려운 것은 Matcher의 Cap이 Ref의 값을 Input으로 받아서, 해당 부분을 상쇄 시키는 부분도 있기 때문에, 이 부분을 고려 했을 때의 Plasma 변화를 함께 고려해야 하기 때문입니다. VI로 판단하기 어려운 부분도 이 부분 때문에....Fuzzy Algorithm을 역으로 추정해야지 실 값이 보인다는....

말이 길어졌는데, 저의 경험만을 가지고 조금 말씀 드리면,
1. DR이나 Uni와 Ref값과 비교 하는 것은 조금 어려움,
2. Part Damage와 연관은 있일 수 있으나, Ref때문에 생겼다고 생각하기는 어려움, 대신, Ref가 높을 때, Part의 Damage가 크다는 것은 유추 가능하다고 판단됨.
3. Ref가 튀는 부분은, Arc에 의하여 다량의 electron이 Matcher로 유입된 것으로 판단됨 (Vdc 와 연동해 보면 더 정확할 듯...)
4. Ref값에 의한 Part 손상은, Heater 보다는, Electrod 혹은 Shower Header 부분과 연동하는 것이 더 나아 보임.

이상입니다.

미약하나마 경험 공유 합니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76677
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57151
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68672
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92182
121 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47801
120 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41219
119 Ground에 대하여 39379
118 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35888
117 matching box에 관한 질문 [1] 29662
116 Arcing [1] 28639
115 esc란? 28065
114 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27605
113 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27207
112 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26463
111 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26178
110 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25581
109 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24846
108 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24770
107 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24743
» 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24556
105 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23329
104 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22939
103 Peak RF Voltage의 의미 22598
102 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22576

Boards


XE Login