Faraday shielding & Screening effect

(1) Faraday shielding : 대부분 processing plasma에서 사용되는 이 용어는 안테나를 사용할 때 안테나표면에 수직으로 생성되는
전기장(Ez)을 차단한다는 의미입니다. 따라서 이 같은 차폐가 있을 수 있다는 이야기는 안테나에서 발생하는 전기장이 아닌 자기장에
의해서 전자기 파의 에너지가 전달된다는 것입니다. 말이 어렵게 들리겠지만 유도(induction)에 의한 플라즈마의 생성에는 자기장에서
유도되는 기전력이 중 인자라는 것을 기억하시면 됩니다. 수업에서 다루었던 내용입니다.
아울러 Ez가 제거된 경우 process에 어떤 영향이 있을까는 어려운 문제이나 실제 플라즈마에서 큰 문제를 야기할 것 같지는 않습니다.
사실  Ez는 플라즈마 fluctuation에 영향을 줌으로 Ez를 줄이면 fluctuation이 심해지는 것을 막을 수 있습니다. Ez가 커서
fluctuation하는 전위차가 충분히 크다면 이런 fluctuation플라즈마가 더 효율적으로 개스의 해리를 증가시킬까는 생각해 볼 여지가
있기는 합니다. 또한 fluctuation이 크면 floating potential이 음으로 이동하는, self bias만으로 조절하는 편이 보다 쉽게 공정을
이끌어가는 법이 될것입니다.


(2) Screening effect : 이런 표현을 누가 쓰는 지는 모르겠습니다만 제 생각에는  Screening effect는 grid bias를 조절하여 remote
plasma에서 오는 하전 플라즈마를 타겟으로 부터 멀리하겠다는 방법으로 보입니다. 따라서 무슨 효과가 있다기 보다는 장치의 일부라
생각이 듭니다. 플라즈마에는 이온과 전자가 있어 grid bias를 이용하여 플라즈마를 cutoff하려면 많은 노력이 필요합니다. grid격자
의 크기와 sheath의 크기를 잘 고려하고 걸리는 전압에 대한 면밀한 조절이 요구됩니다. 또한 눈에 빛이 보이지 않는다해서 플라즈마
가 없는것은 결코 아니니 grid 배후면에서 플라즈마 진단이 요구됩니다. 오히려 눈에 보이는 빛은 플라즈마에서 나오는 빛이 아닙니다.
이점 염두에 두고 grid bias를 잘 조절해 보기 바랍니다. 또한 염두에 둘 것은 screening을 잘 못하면 타겟에 grid 자국을 만들 수
있습니다. 이를 shadow effect라 합니다. 질문자가 예상한 대로 grid에 의한 플라즈마 조절이 가능할 수 있으며 보다 효율적으로
radical 만 타겟 표면으로 보낼 수도 있을 것입니다.